Telset.id – Intel telah memulai ekspansi Bowers Campus di Santa Clara, California, untuk meningkatkan produksi photomask atau reticle di Amerika Serikat. Langkah ini menjadi kunci dalam memperkuat rantai pasok manufaktur chip Intel, terutama untuk proses teknologi tercanggih seperti node 18A, 14A, dan seterusnya.
Perusahaan secara resmi memulai konstruksi ekspansi pabrik baru seluas 107.000 kaki persegi (9.940 meter persegi) yang dilengkapi dengan ruang bersih (cleanroom) Kelas 1. Proses groundbreaking tersebut dihadiri oleh jajaran eksekutif puncak Intel dan Wali Kota Santa Clara, Lisa Gilmor. Fasilitas baru ini akan mampu memproduksi photomask berukuran 6 inci × 6 inci, baik untuk litografi DUV maupun EUV, yang mencakup berbagai node dari 32nm hingga 1.4nm-class.
Fokus utama dari fasilitas ini adalah memproduksi reticle untuk proses teknologi terdepan, seperti Intel 18A, 18A-P, 14A, dan yang lebih canggih. Teknologi-teknologi ini mengandalkan alat DUV, EUV, dan nantinya High-NA EUV, yang membutuhkan photomask dengan pola sangat padat dan menggunakan koreksi proximity optik curvilinear (OPC) dengan bentuk geometris melengkung.
Intel merupakan salah satu dari sedikit produsen chip terkemuka di dunia yang masih mempertahankan fasilitas pembuatan mask (mask writing shop) kelas dunia. Kemampuan ini sangat penting karena setiap produk canggih membutuhkan ratusan mask, dan setiap revisi mask secara langsung memengaruhi jadwal produksi. Memproduksi mask secara in-house menjadi semakin krusial, terutama untuk reticle pada lapisan EUV, karena sinar EUV cenderung merusak mask seiring waktu meskipun menggunakan pelindung pellicle. Dengan memiliki fasilitas internal, Intel dapat membuat mask baru dalam waktu singkat.
Keunggulan lain Intel adalah kemampuannya memproduksi alat untuk penulisan photomask sendiri melalui anak perusahaannya, IMS Nanofabrication. Secara historis, reticle dipola menggunakan alat single e-beam yang lambat. Sebaliknya, IMS memproduksi multi-beam mask writers (MBMWs) yang memproyeksikan 262.144 berkas elektron yang dapat diprogram secara independen secara bersamaan. Teknologi ini meningkatkan hasil produksi (throughput) berkali-kali lipat dengan akurasi penempatan pada skala nanometer.
Baca Juga:
“Santa Clara telah menjadi rumah bagi beberapa inovasi manufaktur terpenting Intel selama beberapa dekade,” ujar Dr. Frank Abboud, VP Intel Foundry & GM of Intel Mask Operations, dalam pernyataan resminya. “Dengan memperluas operasi mask di kampus Bowers, kami memperkuat kemampuan kritis yang mendukung produksi proses teknologi canggih di seluruh dunia dan memperkuat komitmen Intel Foundry untuk memajukan kepemimpinan manufaktur semikonduktor AS.”
Kampus Bowers di Santa Clara telah didedikasikan untuk produksi mask sejak tahun 1986. Situs ini merupakan infrastruktur manufaktur mask utama Intel, bersama dengan fasilitas perusahaan di Hillsboro, Oregon. Produksi mask non-kritis secara historis dilakukan secara outsource, meskipun belum diketahui apakah Intel masih melanjutkan praktik tersebut.
Ekspansi ini menunjukkan betapa strategisnya kemampuan produksi photomask bagi Intel. Di tengah persaingan ketat di industri semikonduktor, memiliki kendali penuh atas rantai pasok komponen kritis seperti reticle memberikan keunggulan kompetitif yang signifikan, terutama dalam hal kecepatan dan fleksibilitas produksi. Langkah ini juga relevan dengan perkembangan terkini di industri, seperti Tesla merekrut eks Intel untuk memimpin proyek fabrikasi chip Terafab, yang menunjukkan betapa tingginya permintaan akan tenaga ahli dan kapasitas produksi chip canggih.
Dengan investasi ini, Intel tidak hanya mengamankan pasokan untuk kebutuhan internalnya, tetapi juga memperkuat posisi Intel Foundry sebagai pemain utama dalam layanan foundry global. Kemampuan memproduksi mask berlapis EUV dengan cepat dan presisi tinggi menjadi nilai jual utama bagi pelanggan foundry yang membutuhkan proses node paling mutakhir.
Ke depannya, ekspansi Bowers Campus ini diharapkan dapat mendukung roadmap proses Intel yang ambisius, mulai dari node 18A hingga 14A dan seterusnya. Keberhasilan produksi massal node-node tersebut sangat bergantung pada ketersediaan photomask berkualitas tinggi yang diproduksi di fasilitas ini.
Langkah Intel ini juga sejalan dengan tren global untuk membangun kembali kapasitas manufaktur semikonduktor di AS. Dengan memiliki fasilitas produksi mask terdepan di dalam negeri, Intel berkontribusi pada upaya pemerintah AS untuk mengurangi ketergantungan pada rantai pasok luar negeri, terutama untuk komponen-komponen kritis dalam pembuatan chip.
Investasi Intel di Bowers Campus merupakan sinyal kuat bahwa perusahaan serius mempertahankan posisinya sebagai pemimpin dalam inovasi manufaktur semikonduktor. Dengan menguasai teknologi pembuatan mask, Intel memiliki kendali lebih besar atas kualitas, biaya, dan jadwal produksi chip-chip paling canggih di dunia.
Komentar
Belum ada komentar.